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J-GLOBAL ID：200903000539442576

高周波加熱装置

Inventor： 吉野 浩二
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996335337
Publication number (International publication number)：1998172750
Application date： Dec. 16, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明は高周波加熱装置に関するもので、被加熱物の均一加熱、局所的加熱、複数の被加熱物の中での選択加熱などを簡単な構成で効率よく行おうとするものである。【解決手段】 加熱室1内の被加熱物3を加熱するために、載置台2の下方から電磁波を放射する複数の放射アンテナ5を切替制御手段7により複数の放射アンテナ5からの電磁波の放射の有無を選択して切替、位置制御手段8により適切な位置に位置制御するもので、被加熱物3を所望の仕上がり状態にすることができる。

Claim (excerpt)：

加熱室内の被加熱物の下方に位置する移動自在の複数の放射アンテナと、この複数の放射アンテナからの電磁波の放射の有無を選択して切替るとともに、放射アンテナの位置を制御して被加熱物の所望の仕上がり状態が得られるようにしたことを特徴とする高周波加熱装置。