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J-GLOBAL ID：200903000542461263

スパツタリング装置

Inventor： 橋本 圭市
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 船橋 国則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991276891
Publication number (International publication number)：1993086471
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、処理室を真空にした状態でターゲットやサセプタ等の保守を可能にして保守時間を短縮するとともに、成膜した膜質の安定化を図る。【構成】 処理室11に対向した状態に設けた第1,第2の開口部12,31にターゲット室13,サセプタ室32を各々に接続し、ターゲット室13内,サセプタ室32内の各々に回動可能な第1,第2のホルダ15,33を設ける。第1のホルダ15の複数箇所に、往復運動する第1の駆動部17,18を介して、第1の開口部12を開閉するターゲット室側開閉板19,20を設ける。各ターゲット室側開閉板19,20にカソード23,24を介してターゲット25,26を取り付ける。また第2のホルダ33の複数箇所に、往復運動する第2の駆動部34,35を介して、第2の開口部31を開閉するサセプタ室側開閉板36,37を設ける。各サセプタ室側開閉板36,37にサセプタを40,41設ける。

Claim (excerpt)：

スパッタリングによって膜生成を行う処理室と、前記処理室に設けた第1の開口部と、前記第1の開口部を介して前記処理室に接続したターゲット室と、前記ターゲット室の内部に設けたもので回動可能な第1のホルダと、前記第1のホルダに複数設けたもので往復運動する第1の駆動部と、前記第1の駆動部に設けたもので当該第1の駆動部が往復運動することによって前記第1の開口部を開閉するターゲット室側開閉板と、前記各ターゲット室側開閉板にカソードを介して取りつけたターゲットと、前記ターゲット室に対向する前記処理室に設けた第2の開口部と、前記第2の開口部を介して前記処理室に接続したサセプタ室と、前記サセプタ室の内部に設けたもので回動可能な第2のホルダと、前記第2のホルダに複数設けたもので往復運動する第2の駆動部と、前記第2の駆動部に設けたもので当該第2の駆動部が往復運動することによって前記第2の開口部を開閉するサセプタ室側開閉板と、前記各サセプタ室側開閉板に設けたサセプタとを備えたことを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (2)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-158461
  
• 特開昭63-026357
  
• 特開昭63-060276
  
• 特開昭64-080025