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J-GLOBAL ID：200903000565372039

マスク検査装置

Inventor： 奥田 健太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993168831
Publication number (International publication number)：1994307826
Application date： Jul. 08, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 マスクのパターン欠陥と付着異物とを検出精度、判別精度、検出再現性がよく検査できるマスク検査装置を提供する【構成】 マスクを照明して生じた透過光と反射光とを、その波長によって2方向に分光し、短波長側と長波長側とのマスク像(マスクパターン)によってマスク表面の欠陥検査や異物検査を行うマスク検査装置である。

Claim (excerpt)：

マスクの投影像を撮像して得た検査画像を予め設定しておいた参照画像と比較して欠陥の有無を検査するマスク検査装置において、下記構成を具備することを特徴とするマスク検査装置。(1) 検査対象たるマスクを載置するステージ部(2) 前記マスクの裏面側から第1の検査光を投射する第1の投光手段(3) 前記マスクの表面側から第2の検査光を投射する第2の投光手段(4) 前記マスクを透過した第1の検査光と前記マスクの表面を反射した第2の検査光とを分離する光分離手段(5) 前記光分離手段によって分離された第1の検査光の投影像を撮像して第1の検査画像信号を出力する第1の撮像手段(6) 前記光分離手段によって分離された第2の検査光の投影像を撮像して第2の検査画像信号を出力する第2の撮像手段(7) 前記第1の検査画像信号に基づいて前記マスクの欠陥を検査する第1の検査手段(8) 前記第2の検査画像信号に基づいて前記マスクの欠陥を検査する第2の検査手段(9) 前記第1及び第2の検査手段におけるそれぞれの検査結果を比較して検出されたマスクの欠陥の種類を判定する判定手段

IPC (3)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405