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J-GLOBAL ID：200903000603353973
整髪剤用基剤
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993243036
Publication number (International publication number)：1995097308
Application date： Sep. 29, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】 カチオン性を呈し、頭髪との密着性および水や親水性有機溶剤との相溶性にすぐれるとともに、高湿度下であっても耐湿性にすぐれた整髪剤用基剤を提供すること。【構成】 ジメチルアミノアルキル(メタ)アクリレートのジエチル硫酸塩(A)5〜45重量%、アルキル(メタ)アクリレート(B)10〜60重量%および親水性モノマー(C)5〜60重量%を含有したモノマー成分を重合してなる整髪剤用基剤。
Claim (excerpt)：
一般式(I):【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 は炭素数1〜3のアルキレン基を示す)で表わされるモノマー(A)5〜45重量%、一般式(II):【化2】(式中、R3 は水素原子またはメチル基、R4 は炭素数1〜18のアルキル基を示す)で表わされるモノマー(B)10〜60重量%、ならびに一般式 (III):【化3】(式中、R5 、R6 およびR7 はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基、nは1〜30の整数を示す)で表わされるモノマーおよび一般式(IV):【化4】(式中、R8 は水素原子またはメチル基を示す)で表わされるモノマーから選ばれた少なくとも1種のモノマー(C)5〜60重量%を含有したモノマー成分を重合してなる整髪剤用基剤。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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