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J-GLOBAL ID：200903000608953464
研磨用組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997008771
Publication number (International publication number)：1998204416
Application date： Jan. 21, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】 研磨速度が大きく、表面粗さが小さな研磨面を得ることができ、さらに微小突起、微細なピット、およびその他の表面欠陥の発生防止が可能な、メモリーハードディスクの研磨用組成物の提供。【解決手段】 二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄化合物を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物、およびその研磨用組成物を用いたメモリーハードディスクの製造法。
Claim (excerpt)：
二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材および水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄化合物を含んでなることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物。
IPC (3)：
C09K 3/14 550
, G11B 5/84
, H01L 21/304 321
C09K 3/14 550 D
, G11B 5/84 A
, H01L 21/304 321 P
Cited by examiner (9)
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