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J-GLOBAL ID:200903000621294887
気密封止構造およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
多田 敏雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998195599
Publication number (International publication number):2000028463
Application date: Jul. 10, 1998
Publication date: Jan. 28, 2000
Summary:
【要約】【課題】 構造簡単でかつ安価としながら気密室43における気密を確実とする。【解決手段】 ガラス基板41にシリコン電極板46を陽極接合することで貫通孔44の内端開口を閉止した後、ガラス基板41、シリコン基板36同士を陽極接合して気密室43を形成するようにしているので、気密室43にアウトガスが発生するようなことはない。また、信号を取り出す導電性ピン50を前記貫通孔44に配置してシリコン電極板36に直接接続したので、構造が簡単となるとともに、ガラス、シリコン基板41、36同士の接合も確実となる。
Claim (excerpt):
シリコン基板と、シリコン基板に陽極接合され、シリコン基板との間に形成された気密室に連通する貫通孔が設けられているガラス基板と、前記ガラス基板の内面に陽極接合により固定され、前記貫通孔の内端開口を気密状態で閉止するシリコン電極板と、前記貫通孔に配置され、シリコン電極板からの信号を外部に導く導電体とを備えたことを特徴とする気密封止構造。
IPC (3):
G01L 9/12
, H01L 23/02
, H01L 29/84
FI (3):
G01L 9/12
, H01L 23/02 B
, H01L 29/84 Z
F-Term (17):
2F055BB01
, 2F055BB08
, 2F055CC02
, 2F055DD05
, 2F055DD07
, 2F055EE25
, 2F055FF43
, 2F055GG01
, 2F055GG12
, 4M112AA01
, 4M112BA07
, 4M112CA02
, 4M112CA11
, 4M112CA16
, 4M112DA18
, 4M112EA02
, 4M112EA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (2)
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特開平4-009727
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圧力センサ及び圧力センサの製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-004482
Applicant:エンドレスウントハウザーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツングウントコンパニー
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