マイクロエマルションを用いて有機および/または無機の汚れを除去する固体表面洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：越場隆
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002555945
Publication number (International publication number)：2004525753
Application date： Jan. 07, 2002
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：

【課題】マイクロエマルションを用いて有機および/または無機の汚れを除去する固体表面洗浄方法。【解決手段】下記の段階(a)〜(d)から成る固体表面洗浄方法:(a)マイクロエマルション型の洗浄組成物を用いて固体表面を洗浄し、(b)洗浄した表面の水分を除去し、(c)水分を除去した表面を沸点の低い有機溶媒または有機溶媒混合物で濯ぎ洗いし、(d)上記(c)段階で有機溶媒または有機溶媒混合物で濯ぎ洗いした表面を乾燥させる。

Claim (excerpt)：

下記の段階(a)〜(d)から成ることを特徴とする固体表面洗浄方法: (a)マイクロエマルション型の洗浄組成物を用いて固体表面を洗浄し、 (b)洗浄した表面の水分を除去し、 (c)水分を除去した表面を沸点の低い有機溶媒または有機溶媒混合物で濯ぎ洗いし、 (d)上記(c)段階で有機溶媒または有機溶媒混合物で濯ぎ洗いした表面を乾燥させる。

IPC (9)：

B08B3/08 , B08B3/10 , C11D1/12 , C11D3/18 , C11D3/20 , C11D3/24 , C11D17/08 , C23G5/06 , F26B3/04

FI (9)：

B08B3/08 Z , B08B3/10 Z , C11D1/12 , C11D3/18 , C11D3/20 , C11D3/24 , C11D17/08 , C23G5/06 , F26B3/04

F-Term (47)：

3B201AA46 , 3B201BB01 , 3B201BB82 , 3B201BB95 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3L113AA01 , 3L113AB02 , 3L113AC20 , 3L113BA34 , 3L113CA08 , 3L113DA26 , 4H003AB13 , 4H003BA12 , 4H003DA05 , 4H003DA14 , 4H003DA15 , 4H003DB02 , 4H003DC04 , 4H003ED02 , 4H003ED03 , 4H003ED09 , 4H003ED19 , 4H003ED28 , 4H003ED29 , 4H003ED30 , 4H003FA37 , 4K053PA03 , 4K053PA13 , 4K053PA17 , 4K053QA04 , 4K053RA09 , 4K053RA32 , 4K053RA36 , 4K053RA37 , 4K053RA40 , 4K053RA41 , 4K053RA42 , 4K053RA48 , 4K053RA52 , 4K053RA64 , 4K053SA06 , 4K053SA18 , 4K053TA13 , 4K053TA17 , 4K053TA19 , 4K053YA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

洗浄組成物及び洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-316486 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
付着水除去用溶剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-041733 Applicant：三井・デュポンフロロケミカル株式会社
化合物半導体ウェーハの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-116803 Applicant：株式会社日鉱共石

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