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J-GLOBAL ID：200903000633546849
ジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994283820
Publication number (International publication number)：1996143584
Application date： Nov. 17, 1994
Publication date： Jun. 04, 1996
Summary：
【要約】【目的】 優れた難燃効果を有する難燃剤を形成し得る、トリフェニルホスフェイトを全く含まず高選択率で得られるジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法を提供すること。【構成】 本発明のジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法は、2,6-ジメチルフェノール類とオキシハロゲン化リンとを反応させて下記〔化1〕の一般式(I)で表されるジアリールホスホロハリデート化合物を製造するに際し、触媒として含窒素複素環化合物を用いることを特徴とする。【化1】
Claim (excerpt)：
2,6-ジメチルフェノール類とオキシハロゲン化リンとを反応させて下記〔化1〕の一般式(I)で表されるジアリールホスホロハリデート化合物を製造するに際し、触媒として含窒素複素環化合物を用いることを特徴とするジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法。【化1】
IPC (4)：
C07F 9/14
, B01J 31/02 102
, C07B 61/00 300
, C09K 21/12
