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J-GLOBAL ID:200903000642813744

アナターゼ型二酸化チタン粉末の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡田 和秀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004103829
Publication number (International publication number):2005289674
Application date: Mar. 31, 2004
Publication date: Oct. 20, 2005
Summary:
【課題】 光触媒や光通信等の分野で有用な微細加工可能なアナターゼ型二酸化チタン粉末の製造方法に関し、アナターゼ相からルチル相へと転位せずに、高純度なアナターゼ型二酸化チタン粉末を安価に製造することができる。【解決手段】 塩化チタン、アルコール類(ROH)(R:CnH2n+1(アルキル基)nが2以上)、および水(H2O)を出発物質として用いた溶液から、アナターゼ型二酸化チタン粉末を製造する方法において、前記溶液の加水分解反応時に、製造される二酸化チタンがアナターゼ相からルチル相に転位しないように、加水分解温度を80°C以上にし、かつ、加水分解反応時に超音波を照射させることを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
塩化チタン、アルコール類(ROH)(R:CnH2n+1(アルキル基)nが2以上)、および水(H2O)を出発物質として用いた溶液から、アナターゼ型二酸化チタン粉末を製造する方法において、前記溶液の加水分解反応時に、製造される二酸化チタンがアナターゼ相からルチル相に転位しないように、加水分解温度を80°C以上にし、かつ、加水分解反応時に超音波を照射させることを特徴とするアナターゼ型二酸化チタン粉末の製造方法。
IPC (1):
C01G23/053
FI (1):
C01G23/053
F-Term (6):
4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G047CD07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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