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J-GLOBAL ID：200903000676397650

荷電粒子ビーム装置

Inventor： 香 川 亨
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000092601
Publication number (International publication number)：2001283761
Application date： Mar. 30, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 被照射対象物等の汚染を防止する。【解決手段】 対物レンズの下部22の底面部、及び試料室底面の排気口10上に、軸方向に複数の孔Hが開けられた紫外線透過材料で作製された円柱体23A,23Bを取り付ける。円柱体23A,23Bの各孔H内には酸化チタン膜が付着されている。各円柱体23A,23Bの一方の側面に対向する試料室壁部には、該側面部を十分見ることが出来る程度の大きさの覗き窓24A,24Bが開けられており、各窓内には気密性を十分に保って透明な板がはめられている。試料室の外部に、紫外光光源25が設けられており、光源25の出光部と前記各窓24A,24Bとがライドガイト26A,26Bで繋がれている。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビーム装置の真空空間部内に紫外光照射により電子を励起し、周辺に存在する酸素を活性酸素にする光触媒作用物質を存在させる様に成した荷電粒子ビーム装置。

IPC (4)：

H01J 37/20 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01J 37/20 G ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/30 541 Z

F-Term (12)：

2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA12 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C001CC04 ,  5C001CC06 ,  5C001DD01 ,  5C033UU03 ,  5F056EA05 ,  5F056EA08 ,  5F056EA11