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J-GLOBAL ID：200903000691761865

レーザ描画装置および方法

Inventor： 上村 貢 ,  古川 考男 ,  前田 龍治
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992132688
Publication number (International publication number)：1993326356
Application date： May. 25, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体装置の製造に用いるマスク、レチクル等のパターンを形成するために有用なレーザ描画装置および描画方法に関し、分割された複数のレーザビームの断面形状を調整することにより、微細パターン描画時にも十分なコントラストが得られるように改良したレーザ描画装置および描画方法を提供することを目的とする。【構成】 基板上に複数のレーザビームを同時に照射して所定パターンを描画する際に、個々のレーザビームの光路上に、レーザビーム外周部分の少なくとも一部の進行を阻止するフィルターを設けて構成する。

Claim (excerpt)：

基板上に複数のレーザビームを同時に照射して所定パターンを描画する装置において、個々のレーザビームの光路上に、レーザビーム外周部分の少なくとも一部の進行を阻止するフィルターを設けたことを特徴とするレーザ描画装置。

FI (2)：

H01L 21/30 321 ,  H01L 21/30 311 S