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J-GLOBAL ID：200903000697815975

位置検出装置及び位置検出方法並びに露光装置

Inventor： 水谷 真士
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 恩田 博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998109948
Publication number (International publication number)：1999304422
Application date： Apr. 20, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】 基板等のアライメントとアライメント光学系の焦点位置の検出とを同一光源で精度よく実行可能な位置検出装置及び方法並びに露光装置を提供する。【解決手段】 広帯域の照明光ILを可視照明光ILvと赤外照明光ILirとに波長分割し、可視照明光ILvを視野絞り板43により断面矩形状に整形し、赤外照明光ILirによりパターン形成板46を介して所定のパターン像を形成する。それらの照明光ILv、ILirを合成後、ウェハW上のウェハマークAMを含むマーク領域を照明し、その反射光RLを可視反射光RLvと赤外反射光RLirに分割する。赤外反射光RLirのパターン像の基準位置からのずれに基づいて、ウェハマークAMをアライメントセンサ32の最適焦点位置に合わせ込んでウェハマークAMの反射像を撮像素子59により観察し、ウェハWのアライメントを行う。

Claim (excerpt)：

位置決め対象物の所定の領域を光源からの照明光で照明し、その所定の領域からの反射光に基づいて前記位置決め対象物の複数の位置情報を検出する各位置情報毎の検出手段を備えた位置検出装置において、前記照明光の波長を分割する波長分割手段を設け、前記検出手段毎にその波長分割手段により分割された所定の波長範囲の照明光に伴う前記所定の領域からの反射光に基づいて前記位置情報を検出する位置検出装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G01B 11/00 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 525 M ,  H01L 21/30 525 R