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J-GLOBAL ID:200903000707940013
混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマー
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (7):
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 舘石 光雄
, 中村 壽夫
, 加藤 勉
, 小野塚 薫
, ▲高▼ 昌宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007050062
Publication number (International publication number):2008214394
Application date: Feb. 28, 2007
Publication date: Sep. 18, 2008
Summary:
【課題】混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマーを提供する。【解決手段】ハイパーブランチポリマーに混合原子価錯体をイオン結合で固定化した高分子錯体を提供することで、スピンコート等による薄膜化が可能となり、混合原子価錯体の幅広い産業応用を可能とする。【選択図】なし
Claim (excerpt):
ハイパーブランチポリマーの少なくとも2つのカルボキシル基に混合原子価錯体をイオン結合で固定化した構造を含有し、ゲル浸透クロマトグラフィによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量が2,000ないし20,000,000である混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマー。
IPC (7):
C08F 8/44
, C07F 13/00
, C07F 15/02
, C07F 15/06
, C07D 213/38
, C08F 222/02
, C08F 212/02
FI (7):
C08F8/44
, C07F13/00 A
, C07F15/02
, C07F15/06
, C07D213/38
, C08F222/02
, C08F212/02
F-Term (30):
4C055AA01
, 4C055BA02
, 4C055BA06
, 4C055BA27
, 4C055BB02
, 4C055BB04
, 4C055BB08
, 4C055BB10
, 4C055CA01
, 4C055DA01
, 4C055EA03
, 4C055GA02
, 4H050AA01
, 4H050AA02
, 4H050AB76
, 4H050AB91
, 4H050AB92
, 4H050AB99
, 4H050AC90
, 4J100AB01Q
, 4J100AK32P
, 4J100BD04H
, 4J100CA31
, 4J100HA31
, 4J100HG28
, 4J100JA01
, 4J100JA07
, 4J100JA25
, 4J100JA32
, 4J100JA43
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