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J-GLOBAL ID：200903000716584262

微細凹凸パターン形成材料、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー

Inventor：
北條 美貴子

About 北條 美貴子


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (2)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002377668
Publication number (International publication number)：2004004515
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：
【課題】版取られが少なく、賦型性及び賦型維持性に優れ、微細凹凸パターンを有する表面構造を精度よく複製でき、特に、近年の非常に複雑な微細凹凸パターンも正確に複製できる微細凹凸パターン形成材料を提供する。また、微細凹凸パターン転写箔、微細凹凸パターン形成方法、光学物品及びスタンパーを提供する。【解決手段】硬化前の動的貯蔵弾性率が、30°Cにおいて1×107Pa以上であり、且つ、60°Cから80°Cの温度域において上記30°Cにおける値の0.008倍〜0.8倍である硬化性樹脂組成物からなる微細凹凸パターン形成材料である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
硬化前の動的貯蔵弾性率が、30°Cにおいて1×107Pa以上であり、且つ、60°Cから80°Cの温度域において上記30°Cにおける値の0.008倍〜0.8倍である硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする、微細凹凸パターン形成材料。
IPC (3)：
G02B5/18 ,  B29C59/02 ,  G03H1/02
FI (3)：
G02B5/18 ,  B29C59/02 Z ,  G03H1/02
F-Term (41)：
2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA55 ,  2K008AA00 ,  2K008DD03 ,  2K008DD12 ,  2K008EE01 ,  2K008EE04 ,  2K008FF11 ,  2K008GG05 ,  4F209AA36 ,  4F209AA42 ,  4F209AA44 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AG26 ,  4F209AH33 ,  4F209AH75 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC03 ,  4F209PC05 ,  4F209PH02 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ09 ,  4F209PW41 ,  4F209PW43 ,  4J027AA01 ,  4J027AH03 ,  4J027BA07 ,  4J027CA10 ,  4J027CA18 ,  4J027CB10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 樹脂組成物及びその硬化物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-205960   Applicant：日本化薬株式会社
  • 光学情報基板
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-348336   Applicant：三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社

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