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J-GLOBAL ID：200903000728382827

真空成膜装置及び方法並びに該装置における圧力センサの交換方法

Inventor： 枦 健治
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994209978
Publication number (International publication number)：1996074041
Application date： Sep. 02, 1994
Publication date： Mar. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】 大気開放型スパッタ装置において、真空チャンバー1の大気開放を繰り返す度に、イオンゲージ6の内部電極が酸化されて測定誤差が大きくなるのを防止して、それに起因する被処理物7にヒロック等が発生するのを防止する。【構成】 本発明の真空成膜装置は、真空チャンバー1と、その真空チャンバー1のゲージポート1cに接続され、該真空チャンバー1内の真空圧力を測定するイオンゲージ6と、前記ゲージポート1cに設けられ、前記真空チャンバー1とイオンゲージ6との間の連通を制御するゲートバルブ12とを備える。ゲートバルブ12とイオンゲージ6との間に、イオンゲージ粗引き用の粗引きライン14aとイオンゲージ6の真空破壊用のベントライン13aとが設けられる。

Claim (excerpt)：

真空チャンバーと、その真空チャンバーのゲージポートに接続され、該真空チャンバー内の真空圧力を測定する圧力センサと、前記ゲージポートに設けられ、前記真空チャンバーと前記圧力センサとの間の連通を制御するゲートバルブとを備える真空成膜装置。

IPC (3)：

C23C 14/24 ,  B01J 3/02 ,  G01L 21/30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 真空チャンバー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-048841   Applicant：三菱樹脂株式会社
• 特開平4-337071