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J-GLOBAL ID:200903000765638149

排ガス中のダイオキシン処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 足立 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997210907
Publication number (International publication number):1999047553
Application date: Aug. 05, 1997
Publication date: Feb. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、ダイオキシンを吸着.除去する排ガス中のダイオキシン処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 排ガス中のダイオキシンを活性炭によって吸着・除去する排ガス中のダイオキシン処理方法において、排ガス中のHClガス濃度を検出し、HClガス濃度に比例させて排ガス中に活性炭を投入することを特徴とする。こうすると、HClガスの濃度に合わせて活性炭を投入するから、無駄が少なく効率よくダイオキシンを吸着・除去できる。
Claim (excerpt):
ダイオキシンを含有する排ガス中のダイオキシンを活性炭で吸着・除去する排ガス中のダイオキシン処理方法において、前記排ガス中のガスの濃度を検出し、該ガスの濃度に比例させて前記排ガス中に活性炭を投入することを特徴とする排ガス中のダイオキシン処理方法。
IPC (3):
B01D 53/70 ,  F23J 15/00 ZAB ,  F27D 17/00 104
FI (3):
B01D 53/34 134 E ,  F27D 17/00 104 G ,  F23J 15/00 ZAB J

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