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J-GLOBAL ID：200903000774595428

ラジカルビーム発射装置及びラジカルビーム発射方法

Inventor： 高橋 弘
Applicant, Patent owner： 株式会社エイコー・エンジニアリング
Agent (1)： 北條 和由
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995221083
Publication number (International publication number)：1997048689
Application date： Aug. 07, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ラジカルビーム源からラジカルビームのみを発射させ、イオンの発射を完全に抑え、且つそのイオン発射防止の条件を正確に正確に把握できるようにする。【解決手段】 ラジカルビーム発射装置は、真空チェンバー2内に配置されると共に、プラズマ状態としたセル3の内部でラジカル原子を発生させ、セル3の放射口26から真空チェンバー2内の所定の位置に向けてラジカルビームを発射する。前記セル3のラジカル原子の放射口26を開閉するシャッター5は導体からなり、このシャッター5とアースとの間に電流計27が接続されている。このシャッター5と前記放射口26との間にサプレッサー電極4が配置され、このサプレッサー電極4に電圧可変電源28が接続され、正電圧が印加される。

Claim (excerpt)：

真空チェンバー(2)内に配置されると共に、プラズマ状態としたセル(3)の内部でラジカル原子を発生させ、セル(3)の放射口(26)から真空チェンバー(2)内の所定の位置に向けてラジカルビームを発射するラジカルビーム発射装置において、前記セル(3)のラジカル原子の放射口(26)を開閉する導体からなるシャッター(5)と、このシャッター(5)とアースとの間に接続された電流計(27)と、前記シャッター(5)と前記放射口(26)との間に配置され、セル(3)の放射口(26)からイオンが放射されるのを抑えるサプレッサー電極(4)と、を備えることを特徴とするラジカルビーム発射装置。

IPC (3)：

C30B 23/08 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/203

FI (3)：

C30B 23/08 M ,  B01J 19/08 H ,  H01L 21/203 M