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J-GLOBAL ID：200903000790626600

ポリシルセスキオキサン類の合成方法及び得られた化合物の利用

Inventor： マルク・ラガルド ,  ドミニク・ブルスー ,  ジヤン-クロード・デユボア
Applicant, Patent owner： トムソン-セーエスエフ
Agent (1)： 川口 義雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1990414317
Publication number (International publication number)：1994248082
Application date： Dec. 26, 1990
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】エーテルの存在下、一般式RSiCl3(式中、Rは有機基、特にアルキル基、アリール基、ビニル基またはアリル基を表す)のトリクロロシランを加水分解する第1段階、第1段階で得られた固体生成物を無水ケトン性溶媒中に溶解させ、塩基を添加し反応を加熱下に実施し、蒸発及び乾燥後に固体生成物を得る第2段階、第2段階で得られた固体生成物を無水ケトン性溶媒に溶解させ、連鎖停止剤を添加し、反応を加熱下に実施し、得られた溶液を濾過、蒸発及び乾燥させることにより目的物のポリシルセスキオキサンを得る第3段階からなり、第2段階を数回繰り返すことを含むポリシルセスキオキサンの合成方法に関する。【効果】架橋性であるビニル基の存在によって、電子、X線及び極限UV範囲の光線に対し感光材料である。この樹脂は従って、標準工程に従ったマイクロリトグラフィ、特に2層工程に於けるイメージ作成に使用できる。

Claim (excerpt)：

エーテルの存在下、一般式RSiCl3(式中、Rは有機基、特にアルキル基、アリール基、ビニル基またはアリル基を表す)のトリクロロシランを加水分解する第1段階、第1段階で得られた固体生成物を無水ケトン性溶媒中に溶解させ、塩基を添加し反応を加熱下に実施し、蒸発及び乾燥後に固体生成物を得る第2段階、第2段階で得られた固体生成物を無水ケトンに溶解させ、連鎖停止剤を添加し反応を加熱下に実施し、得られた溶液を濾過、蒸発及び乾燥させることにより目的物のポリシルセスキオキサンを得る第3段階からなり、第2段階を数回繰り返すことを含むポリシルセスキオキサンの合成方法。

IPC (2)：

C08G 77/06 NUB ,  G03F 7/075 511