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J-GLOBAL ID：200903000791204203

反射防止膜およびこれを使用した半導体装置の製造方法

Inventor： 朴 春根 ,  呂 起成 ,  朴 正哲
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993281728
Publication number (International publication number)：1995092684
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 反射防止膜製造用の組成物、これを使用した反射防止膜およびこれを使用した半導体装置の製造方法を提供する。【構成】 本発明による反射防止膜は主成分としてフェノール系樹脂、アクリル樹脂および水溶性樹脂より成る群から選択された少なくとも一つを含むポリマー溶液を所定基板の上部に塗布し、高温ベークし製造する。【効果】 これにより、製造が容易であり露光光に対し優れた反射防止特性を有し良品の収率が高い。

Claim (excerpt)：

主成分としてフェノール系樹脂、アクリル樹脂および水溶性樹脂より成る群から選択された少なくとも一つを含むポリマー溶液であることを特徴とする半導体装置の反射防止膜の製造用の組成物。

IPC (3)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-008852
  
• 特開昭62-159143
  
• 特開昭63-233531