(メタ)アクリレートベースのABA-トリブロックコポリマーの製造法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , 杉本博司 , 高橋佳大 , 星公弘 , 二宮浩康 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009522189
Publication number (International publication number)：2009544830
Application date： Apr. 12, 2007
Publication date： Dec. 17, 2009
Summary：

本発明は、A-ブロックのアミン官能基化による(メタ)アクリレートベースのABA-トリブロックコポリマーの製造法に関する。

Claim (excerpt)：

組成ABAの個々のA-ブロック中で≦4個の官能基を有するブロックコポリマーにおいて、ブロックA、アミン官能基化(メタ)アクリレートおよび(メタ)アクリレートまたはその混合物の群から選択されたモノマーを含有するコポリマー、および付加的な官能基を有さない(メタ)アクリレートまたはその混合物を含有する1つのブロックBを、ABA-ブロックコポリマーとして重合することを特徴とする、組成ABAの個々のA-ブロック中で≦4個の官能基を有するブロックコポリマー。

IPC (2)：

C08F 297/00 , C09J 153/00

FI (2)：

C08F297/00 , C09J153/00

F-Term (24)：

4J026HA11 , 4J026HA29 , 4J026HA32 , 4J026HA38 , 4J026HB11 , 4J026HB20 , 4J026HB29 , 4J026HB32 , 4J026HB38 , 4J026HB45 , 4J026HB48 , 4J026HC11 , 4J026HC29 , 4J026HC32 , 4J026HC38 , 4J026HC45 , 4J026HE01 , 4J026HE02 , 4J040DM001 , 4J040GA14 , 4J040GA15 , 4J040JB01 , 4J040JB02 , 4J040QA00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

両性又は双極性イオン性部分を含む制御された構造のコポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2005-506660 Applicant：ロディア・シミ
化粧品及びパーソナルケア組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-531983 Applicant：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
特開昭63-117026

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