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J-GLOBAL ID：200903000852539998

ヒドロキシエーテル化合物の製造方法及び洗浄剤組成物

Inventor： 佐藤 純 ,  萬代 宏 ,  吉井 徹 ,  鈴木 薫 ,  戸田 晴彦
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998136180
Publication number (International publication number)：1999315043
Application date： Apr. 30, 1998
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ヒドロキシ化合物とエポキシ化合物との反応によるヒドロキシエーテル化合物の製造方法において、副生物の生成を効果的に抑制してヒドロキシエーテル化合物を収率よく製造する方法及びその方法により得られる脂肪族基を含有するヒドロキシエーテル化合物を含有する洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 ヒドロキシ化合物と、エポキシ化合物とを、酸性又は塩基性を有する固体触媒の存在下で反応させることを特徴とするヒドロキシエーテル化合物の製造方法。前記方法で得られた炭素数4以上の脂肪族基を含有するヒドロキシエーテル化合物を含有する洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

ヒドロキシ化合物と、エポキシ化合物とを、酸性又は塩基性を有する固体触媒の存在下で反応させることを特徴とするヒドロキシエーテル化合物の製造方法。

IPC (3)：

C07C 43/13 ,  C07C 41/03 ,  C11D 1/66

FI (3)：

C07C 43/13 D ,  C07C 41/03 ,  C11D 1/66