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J-GLOBAL ID:200903000875241449
合成石英ガラス製造装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994307252
Publication number (International publication number):1996165130
Application date: Dec. 12, 1994
Publication date: Jun. 25, 1996
Summary:
【要約】【目的】 屈折率の均質性に最適な排気状態を安定して得られる合成石英ガラスの製造装置を提供する。【構成】 炉内からの排気ガス量を変えることなく、排気ラインにガスを導入することで、見かけ上排気ガス量を増加させることより、排気ライン内での排気流速が増加され、生成物質の付着が防止される。その結果、排気状態が安定化し、炉内の雰囲気を均一に保つことができ、屈折率の均質性に最適な合成を安定に行うことが可能となる。
Claim (excerpt):
炉と、該炉内部に設置されたインゴット形成用のターゲットと、該ターゲットに先端を向けて設置された石英ガラス合成用のバーナーと、前記ターゲット上に堆積されなかったシリカ微粒子を排気する排気手段とからなる密閉系の合成石英ガラス製造装置において、排気手段にガス導入手段を設けたことを特徴とする合成石英ガラス製造装置。
IPC (3):
C03B 20/00
, C03B 19/14
, F27B 5/16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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光ファイバ用ガラス母材の製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-022694
Applicant:住友電気工業株式会社
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特開平3-295819
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