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J-GLOBAL ID:200903000891227693

酸化膜密着性に優れたリードフレーム用銅合金及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅賀 一樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997291482
Publication number (International publication number):1999097609
Application date: Sep. 17, 1997
Publication date: Apr. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 ダイレクトボンディング性やはんだ付け性等の特性に悪影響を及ぼすことなく、酸化膜密着性に優れたリードフレーム用の銅合金とその製造方法を提案する。【解決手段】 重量%において、P:0.001〜0.25%、Co:0.01〜0.50%、残部Cu及び不可避的不純物からなり、CoとPの重量百分率の比率がCo/P=1.5〜10であることを特徴とする酸化膜密着性に優れたリードフレーム用銅合金。
Claim (excerpt):
重量%において、P:0.001〜0.25%、Co:0.01〜0.50%、残部Cu及び不可避的不純物からなり、CoとPの重量百分率の比率がCo/P=1.5〜10であることを特徴とする酸化膜密着性に優れたリードフレーム用銅合金。
IPC (2):
H01L 23/50 ,  C22C 9/00
FI (2):
H01L 23/50 K ,  C22C 9/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平4-180549
  • 特開昭59-195853

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