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J-GLOBAL ID：200903000905490520

真空蒸着装置

Inventor： 国枝 敏明
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993015182
Publication number (International publication number)：1994228743
Application date： Feb. 02, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高価な高融点蒸着材料を有効に活用し、機能性素子の製造コストの低下が図れる真空蒸着装置を提供する。【構成】 レーザー発振器13で発生したレーザービームを石英窓14を通して蒸着材料7に照射し、指向性の強い蒸発方向分布特性をもった蒸気を発生させ、効率良く蒸気を高分子フィルム4に付着させる。このとき、補助加熱源15を併用すると、より広範な蒸着条件の選択が可能となる。

Claim (excerpt)：

フイルム状の基板の上に蒸発源から発生させた蒸気を連続的に付着させて薄膜を製造する装置において、レーザービームにより蒸着材料を加熱し蒸発させる機構を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公平2-013612
  
• 特開昭51-026204
  
• 特公昭57-017682