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J-GLOBAL ID：200903000906122613

MRイメージング装置

Inventor： 石川 亮宏
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 佐藤 祐介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001115366
Publication number (International publication number)：2002306448
Application date： Apr. 13, 2001
Publication date： Oct. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】 TRの延長とRF加熱をともに抑えながら、MT効果と脂肪抑制効果とを同時に達成する。【解決手段】 パルスシーケンスの各TRの先頭において、励起パルスおよびGsパルスの印加の前に、自由水の共鳴周波数に実質的に一致する周波数のキャリア信号を任意の基本RFパルスの関数F(t)で振幅変調して得た基本パルスを照射順に二項式となるようにして照射することによって構成された一連の1次パルス群をさらに照射順に二項式となるようにして照射することによって構成されるプリパレーションパルスを印加する。

Claim (excerpt)：

RFパルスを照射するRF送信手段と、スライス選択用傾斜磁場パルス、位相エンコード用傾斜磁場パルスおよび読み出し用傾斜磁場パルスを印加する傾斜磁場パルス印加手段と、エコー信号を受信し、位相検波した後サンプリングしてA/D変換してデータを得る受信手段と、上記RF送信手段、傾斜磁場パルス印加手段および受信手段を制御し、励起パルスをスライス選択用傾斜磁場パルスと同時に印加した後位相エンコード用傾斜磁場パルスおよび読み出し用傾斜磁場パルスを印加して信号を発生させるパルスシーケンスを位相エンコード量を変化させながら繰り返すとともに、各パルスシーケンスの繰り返し時間の先頭において、自由水の共鳴周波数に実質的に一致する周波数のキャリア信号を任意の基本RFパルスの関数F(t)で振幅変調して得た基本パルスを照射順に二項式となるようにして照射することによって構成された一連の1次パルス群をさらに照射順に二項式となるようにして照射することによって構成されるプリパレーションパルスを印加するよう制御する制御手段とを備えることを特徴とするMRイメージング装置。

IPC (3)：

A61B 5/055 ,  G01N 24/12 510 ,  G01R 33/48

FI (3)：

G01N 24/12 510 L ,  A61B 5/05 311 ,  G01N 24/08 510 Y

F-Term (10)：

4C096AA10 ,  4C096AA20 ,  4C096AB04 ,  4C096AB08 ,  4C096AB25 ,  4C096AD06 ,  4C096AD24 ,  4C096BA36 ,  4C096BA50 ,  4C096CC29