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J-GLOBAL ID：200903000908777722

銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプ

Inventor： 上田 哲司 ,  大内 道成 ,  西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  中塚 正大 ,  吉田 英次
Applicant, Patent owner： 信越石英株式会社 ,  有限会社オプトエレクトロニクスラボラトリ
Agent (2)： 石原 詔二 ,  石原 進介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007129707
Publication number (International publication number)：2008285344
Application date： May. 15, 2007
Publication date： Nov. 27, 2008
Summary：

【課題】波長400nm以下の紫外線の照射により、波長520nmから580nmにピークを持つ蛍光を発するガラスであり、高出力での使用においても長期安定性に優れた銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプを提供することを目的とする。【解決手段】5wtppm以上200wtppm以下の銅を含有し、波長160nm以上400nm以下の紫外光の照射により520nm以上580nm以下の領域にピークを持つ蛍光を発し、かつ、波長530nmにおける厚さ2.5mmあたりの内部透過率が95%以上であるようにした。【選択図】図1

Claim 1：

5wtppm以上200wtppm以下の銅を含有し、波長160nm以上400nm以下の紫外光の照射により520nm以上580nm以下の領域にピークを持つ蛍光を発し、かつ、波長530nmにおける厚さ2.5mmあたりの内部透過率が95%以上であることを特徴とする銅含有シリカガラス。

IPC (4)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03C 4/02 ,  C03C 3/06

FI (4)：

C03B8/04 N ,  C03B20/00 F ,  C03C4/02 ,  C03C3/06

F-Term (67)：

4G014AG03 ,  4G014AG04 ,  4G014AH11 ,  4G014AH14 ,  4G014AH21 ,  4G014AH23 ,  4G062AA03 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062DA08 ,  4G062DB01 ,  4G062DB02 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EB01 ,  4G062EB02 ,  4G062EC01 ,  4G062EC02 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH04 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

• 蛍光ガラス及びそれを用いたレーザー装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-049892   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 蛍光シリカガラス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-430709   Applicant：信越石英株式会社
• 波長変換シリカガラス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-090070   Applicant：信越石英株式会社, 有限会社オプト・エレクトロニクス・ラボラトリー
• オゾンガスの検知素子および検出装置ならびに検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-351034   Applicant：日本電信電話株式会社
• 活性化発光ナノクリスタリン粒子をドープしたガラスマトリックス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-521631   Applicant：アメリカ合衆国
• 発光性ガラス物品およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-083270   Applicant：日本電気硝子株式会社
• エキシマレーザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-084024   Applicant：信越石英株式会社

Cited by examiner (6)

• 蛍光シリカガラス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-430709   Applicant：信越石英株式会社
• 波長変換シリカガラス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-090070   Applicant：信越石英株式会社, 有限会社オプト・エレクトロニクス・ラボラトリー
• オゾンガスの検知素子および検出装置ならびに検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-351034   Applicant：日本電信電話株式会社
• 活性化発光ナノクリスタリン粒子をドープしたガラスマトリックス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平8-521631   Applicant：アメリカ合衆国
• 発光性ガラス物品およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-083270   Applicant：日本電気硝子株式会社
• エキシマレーザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-084024   Applicant：信越石英株式会社