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J-GLOBAL ID：200903000930922523

酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法

Inventor： 福島 守之 ,  阿部 雅典 ,  茂木 栄作
Applicant, Patent owner： 関東電化工業株式会社
Agent (1)： 羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003280234
Publication number (International publication number)：2005040766
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

【課題】 真空下での製造プロセスから発生する酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを高効率で除害でき、且つ製造装置の真空度が低下したり真空ポンプが腐食することがなく、しかも長寿命で作業性の良い、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法を提供すること。【解決手段】 アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。該処理剤に、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを真空下で接触させることにより、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを処理する。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。

IPC (4)：

B01D53/68 ,  B01D53/72 ,  B01J20/22 ,  B01J20/28

FI (4)：

B01D53/34 134C ,  B01J20/22 A ,  B01J20/28 Z ,  B01D53/34 120D

F-Term (27)：

4D002AA17 ,  4D002AA22 ,  4D002AA23 ,  4D002AA28 ,  4D002AA33 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA31 ,  4D002DA41 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002GB20 ,  4G066AA05B ,  4G066AA05C ,  4G066AB13B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA31 ,  4G066CA32 ,  4G066CA51 ,  4G066DA02 ,  4G066FA37

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特公平7-20537号公報
  
• 廃ガス処理用吸着剤及びそれを使用する廃ガス処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-141493   Applicant：富士通株式会社, 株式会社富士通東北エレクトロニクス, 関東電化工業株式会社

Cited by examiner (2)

• 特開平2-160042
  
• ドライエッチング排ガスの処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-098461   Applicant：昭和電工株式会社