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J-GLOBAL ID：200903000930922523

酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法

Inventor：
福島 守之

About 福島 守之

, 
阿部 雅典

About 阿部 雅典

, 
茂木 栄作

About 茂木 栄作


Applicant, Patent owner：
関東電化工業株式会社

About 関東電化工業株式会社


Agent (1)： 羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003280234
Publication number (International publication number)：2005040766
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：
【課題】 真空下での製造プロセスから発生する酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを高効率で除害でき、且つ製造装置の真空度が低下したり真空ポンプが腐食することがなく、しかも長寿命で作業性の良い、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤並びに処理方法を提供すること。【解決手段】 アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。該処理剤に、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを真空下で接触させることにより、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスを処理する。【選択図】 なし
Claim 1：
アミンの無機酸塩及び活性炭からなる、酸性ガス及び/又は炭化水素を含む排ガスの処理剤。
IPC (4)：
B01D53/68 ,  B01D53/72 ,  B01J20/22 ,  B01J20/28
FI (4)：
B01D53/34 134C ,  B01J20/22 A ,  B01J20/28 Z ,  B01D53/34 120D
F-Term (27)：
4D002AA17 ,  4D002AA22 ,  4D002AA23 ,  4D002AA28 ,  4D002AA33 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA04 ,  4D002CA07 ,  4D002DA31 ,  4D002DA41 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002GB20 ,  4G066AA05B ,  4G066AA05C ,  4G066AB13B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA31 ,  4G066CA32 ,  4G066CA51 ,  4G066DA02 ,  4G066FA37
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)

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