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J-GLOBAL ID:200903000964464710

ビスマス系酸化物超電導体厚板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991246259
Publication number (International publication number):1993085806
Application date: Sep. 25, 1991
Publication date: Apr. 06, 1993
Summary:
【要約】【目的】本発明は表面平滑にして遮蔽能等の超電導特性に優れたビスマス系酸化物超電導体厚板を製造せんとするものである。【構成】本発明は焼結処理を施したビスマス系酸化物超電導体厚板に生成した割れ、気泡部分に新たに超電導体物質を充填した後、再度焼結処理を施すことを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
ビスマス、アルカリ土類金属、銅及び酸素からなるビスマス系酸化物超電導体物質又はその前駆物質の厚板成形体に焼結処理を施し超電導相を生成せしめてビスマス系酸化物超電導体厚板を製造する方法において、焼結処理時に該厚板成形体に生成した割れ又は気泡の部分にビスマス系酸化物超電導体物質を充填又は上記厚板成形体の全面に上記ビスマス系超電導体物質を供給して再度焼結処理を施した後、焼成処理を行うことを特徴とするビスマス系酸化物超電導厚板の製造方法。
IPC (6):
C04B 35/00 ZAA ,  C01G 1/00 ZAA ,  C01G 29/00 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H05K 9/00 ,  H01B 12/02 ZAA

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