パターン形成体およびパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：米澤明 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998165392
Publication number (International publication number)：1999344804
Application date： Jun. 12, 1998
Publication date： Dec. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】光触媒を使用したパターン形成体を提供する。【解決手段】基体上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質を含有する層、光触媒含有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質の含有層、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパターンの露光によって光触媒の作用により分解除去される層を有するか、もしくは基材上に、光触媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解される物質、および結着剤からなる組成物層を有し、露光によって濡れ性を変化させることによってパターンを記録するパターン形成体。

Claim (excerpt)：

光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を含有することを特徴とするパターン形成体。

IPC (5)：

G03F 7/004 521 , B41C 1/10 , C09D183/08 , G03F 7/00 501 , G03F 7/075 511

FI (5)：

G03F 7/004 521 , B41C 1/10 , C09D183/08 , G03F 7/00 501 , G03F 7/075 511

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特公昭49-012282
有機ケイ素高分子材料及び着色部材の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-015639 Applicant：株式会社東芝
画像形成装置および方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-289584 Applicant：富士ゼロックス株式会社

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