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J-GLOBAL ID：200903001024110429
薄膜の形成方法及びその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
堀田 信太郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993194328
Publication number (International publication number)：1995026379
Application date： Jul. 09, 1993
Publication date： Jan. 27, 1995
Summary：
【要約】【目的】 被処理物に欠損のない均一な薄膜を形成して製品の歩留まりを向上させることができ、また大量生産が可能な薄膜の形成方法を提供する。【構成】 真空チャンバ4の内部10に受皿2を配設してこの受皿2に複数の被処理物3を載せ、真空チャンバ4の外部の振動源5により受皿2を振動させながら被処理物3に薄膜を形成する。
Claim (excerpt)：
容器の内部に受皿を配設してこの受皿に複数の被処理物を載せ、前記容器の外部の単数及び複数の振動源により前記受皿を振動させながら前記被処理物に薄膜を形成することを特徴とする薄膜の形成方法。
Patent cited by the Patent：
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