熱硬化性反射防止性コーティングおよびその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萼経夫 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997509244
Publication number (International publication number)：1999511194
Application date： Dec. 14, 1995
Publication date： Sep. 28, 1999
Summary：

【要約】広領域の露光波長用の、熱硬化性反射防止性コーティングおよびそれを製造および使用する方法を開示する;前記コーティングは活性硬化触媒、2.0より大きいエポキシ官能価より誘導されたエーテルもしくはエステル結合、染料-グラフト化ヒドロキシル官能性オリゴマーおよびアルキル化アミノプラスト架橋剤を含み、それら全てが低ないし中沸点アルコール含有溶媒中にある。

Claim (excerpt)：

a. 予め選択されたフェノール-もしくはカルボン酸-官能性染料と、

IPC (3)：

C09D163/00 , C08G 59/14 , C08G 59/40

FI (3)：

C09D163/00 , C08G 59/14 , C08G 59/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (19)

平坦化材料及び平坦化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-204341 Applicant：東ソー株式会社
特開平4-296594
反射防止膜形成用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-146524 Applicant：日本合成ゴム株式会社

反射防止コーティング組成物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-158296 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

ドライ現像用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-081558 Applicant：日本合成ゴム株式会社

感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-178633 Applicant：王子化工株式会社

エポキシ樹脂水性分散物の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-228987 Applicant：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

新規なアントラセン誘導体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-188795 Applicant：和光純薬工業株式会社

パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-052757 Applicant：株式会社東芝

反射防止膜およびレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-199902 Applicant：日本合成ゴム株式会社

反射防止膜およびレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-288131 Applicant：日本合成ゴム株式会社

特開平4-083257

特開平4-153290

反射防止膜用材料及び反射防止膜形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-252647 Applicant：富士通株式会社

反射防止膜材料用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-208630 Applicant：富士写真フイルム株式会社

特開昭63-170472

特開昭59-197419

特開昭61-180241

特公昭45-021951

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