ガス処理設備

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北村修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998260399
Publication number (International publication number)：2000084340
Application date： Sep. 14, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】浄化装置によりガス中の汚染成分を除去するガス処理設備において、浄化装置の小型化を可能にする。【解決手段】浄化装置2へ被処理ガスGを導くガス路3に、被処理ガスGの汚染成分濃度の上昇に対し、汚染成分を吸着又は吸収して浄化装置2へ送る被処理ガスGの汚染成分濃度を低下させ、かつ、被処理ガスGの汚染成分濃度の低下に対し、吸着又は吸収した汚染成分を放出して浄化装置2へ送る被処理ガスGの汚染成分濃度を上昇させる吸着剤X又は吸収剤を設ける。また、浄化装置2へ送る被処理ガスGの汚染成分濃度を低下させる吸着剤X又は吸収剤を設けるとともに、発生元1からの被処理ガスGの送り出しの停止時に、吸着剤X又は吸収剤の配設部5を通じて清浄ガスAを浄化装置2に送る清浄ガス導入手段7A,7Bを設ける。

Claim (excerpt)：

ガス中の汚染成分を除去する浄化装置へ被処理ガスを導くガス路に、汚染成分の発生元から送られる被処理ガスの汚染成分濃度の上昇に対し、そのガス中の汚染成分を吸着又は吸収して、前記浄化装置へ送る被処理ガスの汚染成分濃度を低下させ、かつ、汚染成分の発生元から送られる被処理ガスの汚染成分濃度の低下に対し、吸着又は吸収した汚染成分を放出して、前記浄化装置へ送る被処理ガスの汚染成分濃度を上昇させる吸着剤又は吸収剤を設けてあるガス処理設備。

IPC (3)：

B01D 53/04 , B01D 53/34 , B01D 53/81

FI (4)：

B01D 53/04 G , B01D 53/04 E , B01D 53/04 F , B01D 53/34 A

F-Term (37)：

4D002AB02 , 4D002AC10 , 4D002BA03 , 4D002BA04 , 4D002BA05 , 4D002BA07 , 4D002CA07 , 4D002DA35 , 4D002DA41 , 4D002DA45 , 4D002DA46 , 4D002EA02 , 4D002EA08 , 4D002EA09 , 4D002EA13 , 4D002FA10 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB04 , 4D002GB06 , 4D002HA01 , 4D012CA09 , 4D012CB12 , 4D012CD02 , 4D012CD03 , 4D012CD04 , 4D012CD05 , 4D012CD07 , 4D012CE01 , 4D012CE02 , 4D012CF02 , 4D012CF03 , 4D012CF05 , 4D012CF08 , 4D012CG01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭54-110978
バッファを備えた有害ガスの浄化装置及び浄化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-250245 Applicant：株式会社島川製作所
特開昭52-065175

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