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J-GLOBAL ID:200903001063864252
積層薄膜コンデンサの製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992059861
Publication number (International publication number):1993267091
Application date: Mar. 17, 1992
Publication date: Oct. 15, 1993
Summary:
【要約】【目的】 積層薄膜コンデンサ素子部を形成する一連の工程の処理能力を向上させる。【構成】 板状固定マスク2により薄膜電極をパターン形成する工程と、板状固定マスク2により有機誘電体薄膜をパターン形成する工程と、マイクロ波プラズマを基板6全面へ照射する工程とからなり、これらの工程を同一真空槽1,2,3 内での連続的な処理を可能とするために同一圧力下でかつ同一真空槽内で行い、さらにこれらの工程をくり返す構成となっている。
Claim (excerpt):
薄膜電極をパターン形成する工程と、有機誘電体薄膜をパターン形成する工程と、基板全面へプラズマを照射する工程とを同一圧力下でかつ同一真空槽内で行い、さらにこれらの工程をくり返して積層する積層薄膜コンデンサの製造方法。
IPC (2):
H01G 4/06 102
, H01G 4/30 311
Patent cited by the Patent:
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