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J-GLOBAL ID：200903001074136186
偏光解析装置の光学系
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996352516
Publication number (International publication number)：1998153487
Application date： Nov. 25, 1996
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：
【要約】【目的】偏光解析装置においてサンプルを2次元的に測定する場合、焦点深度を深くして2次元的に測定することを目的とする。【構成】光源(1)からの単色光をコリメーターレンズ(2)で平行光にし、偏光子(3)によって直線偏光とする。それをビームエキスパンダー(4)で適当なビーム径の広がった平行光にし、それを試料(5)に照射して、その反射光を第1のアフォーカル系(6)、波長板(7)、検光子(8)、第2のアフォーカル系(9)を経て、CCDエリアセンサー(10)上に結像させる。
Claim (excerpt)：
偏光解析装置の結像系をアフォーカル系に構成する。
IPC (2)：
FI (2)：
G01J 4/04 A
, G01M 11/00 T
