ブラシ・アセンブリ装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人明成国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006276105
Publication number (International publication number)：2007036287
Application date： Oct. 10, 2006
Publication date： Feb. 08, 2007
Summary：

【解決手段】ウェハの両面を同時にスクラビングするシステムなど、酸性の強いまたはその他の揮発性化学溶液とともに使用するためのブラシボックス格納装置と、ローラ位置決め装置(520)と、ブラシ配置装置とを含む半導体処理システムである。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

ウェハのスクラビングに使用するためのブラシ・アセンブリ装置であって、ブラシと、モータの作動に応答して回転可能な第1シャフトと、第1シャフトに結合され、第1シャフトの回転に応答してブラシを回転させる第1駆動機構と、ブラシに結合された第1アームとを含み、第1アームが第1の方向にアーチ形に運動するとブラシがウェハに向かって旋回し、第1アームが第2の方向にアーチ形に運動するとブラシがウェハから離れるように旋回する装置。

IPC (1)：

H01L 21/304

FI (2)：

H01L21/304 644C , H01L21/304 644Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-289391 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-229752 Applicant：東京応化工業株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-088782 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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