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J-GLOBAL ID：200903001096332442
プラズマ生成装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992140285
Publication number (International publication number)：1993335274
Application date： Jun. 01, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：
【要約】【目的】無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。【構成】放電室7と、放電室内にプラズマを発生するためのマグネトロン1と、導波管と、ソレノイドコイル10,11と、放電室7にマイクロ波を供給するための石英板9と、石英板9の内側にガスを溜めるための空間と、放電室の最大直径の1/4以下の大きさのガス供給口17を持つ石英板18により、ウエハ面にガスを噴出させる。
Claim (excerpt)：
有磁場マイクロ波プラズマ生成装置において、プラズマ生成ガスの供給口をウエハと対向するチャンバ壁面に配置したことを特徴とするプラズマ生成装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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特開平2-083921
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特開昭60-025234
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特開昭63-263725
Cited by examiner (9)
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