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J-GLOBAL ID：200903001108385571

ポジ型感光性組成物

Inventor： 青合 利明 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991344112
Publication number (International publication number)：1993158242
Application date： Dec. 03, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイスの製造において、高感度で且つ高い解像力を有するフオトレジスト組成物を提供すること、詳しくはDeep-UV 領域での吸収が小さく、短波長光源に対応し得るポジ型フオトレジスト組成物を提供する。更に、露光後の処理工程条件による性能の変動が小さいポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型感光性組成物が、(a) 酸により分解し得る基を少なくとも1個有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(b) 活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c) 50°C以上で塩基を発生する化合物、を含有して成る。

Claim (excerpt)：

(a) 酸により分解し得る基を少なくとも1個有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(b) 活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c) 50°C以上で塩基を発生する化合物、を含有して成ることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027