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J-GLOBAL ID：200903001108750792

正方形反対称均一冗長アレイ符号化アパーチャ撮像システム

Inventor： チョウ・ウォルター ,  オージェリ・リチャード・シー
Applicant, Patent owner： エーアイエル・システムズ・インコーポレーティド
Agent (1)： 山田 義人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006120018
Publication number (International publication number)：2006227024
Application date： Apr. 25, 2006
Publication date： Aug. 31, 2006
Summary：

【構成】 正方形反対称均一冗長アレイ符号化アパーチャは、透明および不透明セルを含み、第1位置で正規マスクパターンを呈し、および第1位置から90°回転位置のずれた第2位置で補完マスクパターンを呈する。符号化アパーチャは、ガンマ線またはX線等の非合焦性放射線源の撮像用のシステムに用いられる。撮像システムは、発生源から発生された放射線(20)を受けて二位置で符号化陰影を発生する符号化アパーチャ(22),符号化アパーチャを二位置間で回転させる回転プラットフォーム(24)およびモータ(30),それに当った陰影の符号化光信号を発生する位置検知検出器10),光信号の符号化電機信号を発生する光信号変換器(34),および電気信号を解読して非合焦性放射線源の画像信号を発生する信号処理器(14)を含む。【効果】 人間の放射線被爆に対する危険を最小限にしながら、ガンマ線発生源の画像表示することができる。【選択図】 図13

Claim (excerpt)：

非合焦性放射線源を撮像するための正方形反対称均一冗長アレイ符号化アパーチャであって、前記符号化アパーチャは、透明セルおよび不透明セルを含むとともに第1の値および第2の値を含む値を有する要素を有する全面マスクパターンを呈し、前記透明セルと不透明セルはそれぞれ前記第1値および第2値を有する前記要素に対応する個所に割り付けられ、前記全面マスクパターンはオーダーνで中央部を有する原始マスクパターンから発生され、前記原始マスクパターンは以下の関係により定義づけられる: Aij=0 i=0のとき Aij=1 j=0かつi≠0のとき Aij=1 Bi =Bj のとき Aij=0 その他の場合 ここで、Aは均一冗長アレイ符号化関数でBはスキュー・アダマール2次剰余シーケンスであり、全面マスクパターンは原始マスクパターンの中央部から原始マスクパターンを対角線外方に繰り返すことにより構成されて、前記全面マスクパターンは合計(2ν-1)×(2ν-1)個の要素を含む、ことを特徴とする符号化アパーチャ。

IPC (5)：

G01T 1/29 ,  H04N 5/32 ,  G01T 1/24 ,  G21K 3/00 ,  G06T 5/20

FI (5)：

G01T1/29 C ,  H04N5/32 ,  G01T1/24 ,  G21K3/00 Z ,  G06T5/20 J

F-Term (36)：

2G088EE21 ,  2G088FF04 ,  2G088FF14 ,  2G088FF18 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ01 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ08 ,  2G088JJ29 ,  2G088JJ30 ,  2G088JJ35 ,  2G088KK32 ,  2G088KK35 ,  2G088MM01 ,  5B057AA01 ,  5B057BA03 ,  5B057BA12 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC01 ,  5B057CE06 ,  5B057DA08 ,  5B057DA16 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC06 ,  5B057DC22 ,  5B057DC36 ,  5C024AX11 ,  5C024AX16 ,  5C024BX04 ,  5C024HX60