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J-GLOBAL ID：200903001125525824
磁気ディスクの製造方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩川 修治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995192629
Publication number (International publication number)：1997027121
Application date： Jul. 06, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：
【要約】【目的】 磁気ディスク表面の異常突起を除去するとともに、磁気ディスク表面における異物の残存やスクラッチの発生を防止すること。【構成】 磁気ディスク1の製造方法において、カーボン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうもの。
Claim (excerpt)：
基板の上に磁性層を形成し、磁性層の上にカーボン保護層を形成することを含む磁気ディスクの製造方法において、前記カーボン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2)：
FI (3)：
G11B 5/84 A
, G11B 5/84 B
, C23C 14/34 P
