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J-GLOBAL ID：200903001138330801

ヒドロキシ安息香酸類の製造方法

Inventor： 上野 隆三 ,  北山 雅也 ,  若森 浩之 ,  米谷 宣宏 ,  久野 貴矢
Applicant, Patent owner： 株式会社上野製薬応用研究所
Agent (4)： 青山 葆 ,  河宮 治 ,  田中 光雄 ,  松谷 道子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002288732
Publication number (International publication number)：2004123592
Application date： Oct. 01, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：

【課題】副生成物が少なく高純度のヒドロキシ安息香酸類を高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】フェノール類とアルカリ金属化合物とを脱水反応させて、フェノール類のアルカリ金属塩を得た後、二酸化炭素と反応させてヒドロキシ安息香酸類を製造する方法において、アルカリ金属化合物と、アルカリ金属化合物に対して過剰量のフェノール類とを160°C以上の温度下で脱水反応させることを特徴とする、ヒドロキシ安息香酸類の製造方法を提供する。本発明の方法によれば、非プロトン性極性有機溶剤を用いることなく簡易な工程で安価にヒドロキシ安息香酸類を製造することができる。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

フェノール類とアルカリ金属化合物とを脱水反応させて、フェノール類のアルカリ金属塩を得た後、二酸化炭素と反応させてヒドロキシ安息香酸類を製造する方法において、アルカリ金属化合物と、アルカリ金属化合物に対して過剰量のフェノール類とを160°C以上の温度下で脱水反応させることを特徴とする、ヒドロキシ安息香酸類の製造方法。

IPC (3)：

C07C51/15 ,  C07C65/03 ,  C07C65/05

FI (3)：

C07C51/15 ,  C07C65/03 A ,  C07C65/05

F-Term (10)：

4H006AA02 ,  4H006AC42 ,  4H006AC46 ,  4H006BC10 ,  4H006BC31 ,  4H006BD70 ,  4H006BE10 ,  4H006BE41 ,  4H006BJ20 ,  4H006BN30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭63-165341
  
• パラオキシ安息香酸の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-160227   Applicant：川崎製鉄株式会社
• 芳香族ヒドロキシカルボン酸の製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-244950   Applicant：上野製薬株式会社
• 特公昭35-006211
  
• ヒドロキシ安息香酸類の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-258483   Applicant：三井化学株式会社