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J-GLOBAL ID：200903001139644486

ろ過膜の洗浄再生方法

Inventor： 菅谷 謙三 ,  土屋 実 ,  松原 秀吉 ,  馬場 淳雄 ,  藤村 重幸 ,  樫出 敏次 ,  高島 宏泰 ,  西野 方康 ,  山下 修 ,  佐々木 廣三 ,  三好 茂 ,  荒木 公夫
Applicant, Patent owner： 石垣機工株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992121282
Publication number (International publication number)：1993285354
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 セラミックフィルターの膜面に付着した固形物を効果的に除去できる方法を提供する。【構成】 セラミックフィルターの膜面に付着した固形物に対して液体状および気体状の洗浄流体とを合わせて作用させる。高圧気体によって付着した固形物を剥離させた上で、液体状の洗浄流体で洗い流すので、セラミックフィルターのようなろ材の膜面に詰まって強く付着した固形物までも完全に除去することができる。

Claim (excerpt)：

膜ろ過装置において、膜面に付着した微細な固形物Sを除去するに当り、微細な固形物Sに対して液体および気体の洗浄流体を作用させることを特長とするろ過膜の洗浄再生方法。

IPC (2)：

B01D 65/02 520 ,  B01D 65/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特公昭63-014320
  
• 特開昭48-034783
  
• 特開平2-002895
  
• 特開昭56-024006
  
• 特開昭54-032179
  
• 特開平2-009417