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J-GLOBAL ID：200903001143144161

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 河田 正司 ,  楠 哲了 ,  柏木 幹文 ,  藤井 利明
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992165345
Publication number (International publication number)：1993333540
Application date： Jun. 01, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れていると共に、特に、1μm以下の微細パターンを形成する微細加工において、露光量に対する寸法変化の小さい、いわゆる露光マージン(露光ラティチュード)に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 (a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル感光剤、及び(c)下記一般式〔I〕で示されるモノヒドロキシ化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。R1〜R5:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、及び炭素数2〜5のアルケニル基から選択される。R7及びR8:それぞれ独立に水素原子、及び炭素数1〜4のアルキル基から選択される。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル感光剤、及び(c)下記一般式〔I〕で示されるモノヒドロキシ化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】R1〜R5:それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、及び炭素数2〜5のアルケニル基から選択される。R7及びR8:それぞれ独立に水素原子、及び炭素数1〜4のアルキル基から選択される。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027