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J-GLOBAL ID：200903001173892332

位相シフトマスクおよびその製造方法

Inventor： 悳 昭彦 ,  川田 前 ,  吉岡 信行
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社 ,  アルバック成膜株式会社 ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994214002
Publication number (International publication number)：1995168343
Application date： Sep. 07, 1994
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 位相シフトマスクとしての性能を低下させることなく通常の欠陥検査装置を用いて、位相シフト部に発生した欠陥を容易に発見することができる構造を有する位相シフトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】 この発明の位相シフトマスクは、露光光を透過する石英基板1と、この石英基板1の主表面上に所定の透過率を有する透過膜10と、この透過膜10の上に、透過膜10が露出する光透過部7と、透過膜10とともに露光光の位相角を180°変換し、かつ、透過率が4〜20%となる略均一な材料からなる単層膜4とを備えている。

Claim (excerpt)：

露光光を透過する基板と、前記基板の上の所定の領域に形成され、透過する前記露光光の位相角を略180°変換し、かつ、前記露光光の透過率が4〜20%となる位相シフタ部と、を備え、前記位相シフタ部は、略均一な材料からなる単層膜と、前記単層膜との組合せにおいて、透過率の波長依存性が小さい透過膜と、を含む、位相シフトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平4-136854
  
• 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-031428   Applicant：大日本印刷株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスクブランク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-324347   Applicant：ホーヤ株式会社

Cited by examiner (4)

• 特開平4-136854
  
• 特開平4-136854
  
• 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-031428   Applicant：大日本印刷株式会社
• 位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスクブランク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-324347   Applicant：ホーヤ株式会社