レジスト用剥離液組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993211525
Publication number (International publication number)：1995064297
Application date： Aug. 26, 1993
Publication date： Mar. 10, 1995
Summary：

【要約】【構成】 (A)有機アミン類、(B)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級ヒドロキシアルキル基である)で表わされるアセチレンアルコール及びそのエチレンオキシド付加物の中から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、(C)非プロトン性極性溶剤及び(D)水から成るレジスト用剥離液である。【効果】この剥離液は、不燃性であり、低温においてホトレジスト膜特に変質された膜に対して優れた剥離作用を示し、しかも腐食性が低く水洗のみにより容易に除去できるという利点を有する。

Claim (excerpt)：

(A)有機アミン類、(B)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級ヒドロキシアルキル基である)で表わされるアセチレンアルコール及びそのエチレンオキシド付加物の中から選ばれた少なくとも1種の界面活性剤、(C)非プロトン性極性溶剤及び(D)水から成るレジスト用剥離液組成物。

IPC (2)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭64-088548
特開昭64-081950
特開昭64-081949

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