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J-GLOBAL ID:200903001177647618
投影露光装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
早瀬 憲一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991185298
Publication number (International publication number):1993013300
Application date: Jun. 28, 1991
Publication date: Jan. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 フライアイレンズ後段に輪帯状のアパーチャを有し、マスク面上を照射する光の強度分布を均一化する。【構成】 回転駆動部5と回転軸5aからなる回転機構を設け、フライアイレンズ3を回転軸5aを中心として回転させ、マスク8上で光源光の時間的重ね合わせが得られるようにする。
Claim (excerpt):
光源と、該光源から出射した光を受け、複数の単位レンズがマトリックス状に配置されたフライアイレンズと、輪帯状の光透過領域を有し、上記フライアイレンズを通過した光の一部を遮るアパーチャと、該アパーチャを通過した光を集光する集光レンズ系と、該集光レンズを通過した光が照射され、回路パターンが形成されたマスクと、該マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レンズ系と、上記フライアイレンズを、該フライアイレンズの光軸断面が上記アパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら、空間的に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, G02B 27/00
, G03F 7/20 521
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