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J-GLOBAL ID：200903001179635803

非対称ジシロキサン化合物の製造方法

Inventor： 川上 雄資
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994263855
Publication number (International publication number)：1996119977
Application date： Oct. 27, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 炭素-炭素不飽和基を含有する非対称ジシロキサン化合物を選択性良く、すなわち収率良く製造する方法を提供する。【構成】 一般式R1-Li (式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素-炭素不飽和基を含有する炭素数3〜6の1価の有機基を表すが、下記シクロトリシロキサンが[(CH3)2SiO]3のときは炭素-炭素不飽和基を含有する炭素数3〜6の1価の有機基である。)で示される有機リチウム化合物と、式[(CH3)2SiO]3又は[(CH3)(CH2=CH)SiO]3 で示されるシクロトリシロキサンとを、Si/Liモル比= 0.8〜1.2 で反応させた後、一般式R2R3R4SiX (式中、R2、R3、R4はそれぞれ独立に活性水素を有しない置換、非置換の1価の有機基又は水素原子を、X はCl、Br、I から選択されるハロゲン原子を表す。)で示されるトリオルガノハロシランと反応させることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

一般式R1-Li (式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素-炭素不飽和基を含有する炭素数3〜6の1価の有機基を表すが、下記シクロトリシロキサンが式[(CH3)2SiO]3で示されるものであるときは炭素-炭素不飽和基を含有する炭素数3〜6の1価の有機基である。)で示される有機リチウム化合物と、式[(CH3)2SiO]3又は[(CH3)(CH2=CH)SiO]3 で示されるシクロトリシロキサンとを、Si/Liモル比= 0.8〜1.2 で反応させた後、一般式R2R3R4SiX (式中、R2、R3、R4はそれぞれ独立に活性水素を有しない置換、非置換の1価の有機基又は水素原子を、X はCl、Br、I から選択されるハロゲン原子を表す。)で示されるトリオルガノハロシランと反応させることを特徴とする一般式【化1】(式中、R1〜R4は前記に同じ。)で示される炭素-炭素不飽和基含有非対称ジシロキサン化合物の製造方法。