薄膜の製造方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：蔦田璋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992230100
Publication number (International publication number)：1994073535
Application date： Aug. 28, 1992
Publication date： Mar. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】レーザーアブレーション法を用いて薄膜を製造する方法であって、パルスレーザー光の発振信号に同期してターゲット12とレーザー光導入窓20との間の光路24にガスパルスを噴射し、レーザー光導入窓20へのターゲット材料の付着を防止する。【効果】レーザー光導入窓へのターゲット材料の付着が有効に防止されることにより、レーザー光の透過率が下がらず、長時間の連続成膜が可能である。また、レーザー光導入窓を研磨する費用が大幅に減少する。

Claim (excerpt)：

レーザーアブレーション法を用いて薄膜を製造する方法であって、パルスレーザー光の発振信号に同期してターゲットとレーザー光導入窓との間の光路にガスパルスを噴射し、レーザー光導入窓へのターゲット材料の付着を防止することを特徴とする薄膜の製造方法。

IPC (3)：

C23C 14/28 , H01L 21/205 , H01S 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平2-298261
特開平4-187761
特開昭58-042770

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