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J-GLOBAL ID：200903001193741330

光学活性パントラクトンの製造方法

Inventor： 佐用 昇 ,  張 小勇 ,  今井 隆 ,  三浦 孝志
Applicant, Patent owner： 高砂香料工業株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996277981
Publication number (International publication number)：1998120670
Application date： Oct. 21, 1996
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】【解決手段】 2,2'- ビス(ジ-3,5- キシリルホスフィノ)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチル(1)の遷移金属錯体の存在下にケトパントラクトンを不斉水素化することを特徴とする光学活性パントラクトンの製造方法。【化1】【効果】 光学活性パントラクトンを高エナンチオ選択率及び高転化率で製造することができる。

Claim 1：

次式(1)【化1】で表される2,2'-ビス(ジ-3,5-キシリルホスフィノ)-5,5',6,6',7,7',8,8'-オクタヒドロ-1,1'-ビナフチルの遷移金属錯体の存在下にケトパントラクトンを不斉水素化することを特徴とする光学活性パントラクトンの製造方法。

IPC (5)：

C07D307/33 ,  B01J 31/22 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (4)：

C07D307/32 Q ,  B01J 31/22 Z ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300