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J-GLOBAL ID：200903001231225953

静電吸着装置

Inventor：
伊藤 陽一

About 伊藤 陽一

, 
七田 弘之

About 七田 弘之


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993058422
Publication number (International publication number)：1994275706
Application date： Mar. 18, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：
【要約】【目的】安価に絶縁膜の信頼性を向上を図ることができる静電吸着電極を提供することにある。【構成】アルミ製の電極10上にAl2O3にTiO2を添加した絶縁材料をArガス等の不活性ガスにより約200Torrに減圧した還元雰囲気中でプラズマ溶射して絶縁膜11を形成して静電吸着電極12を構成することにより、絶縁膜11の絶縁破壊電圧、誘電率を従来の大気中でプラズマ溶射する方法に比べて高くでき大きい吸着力を得ることができる。
Claim (excerpt)：
プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、電極上に絶縁膜をArガスにより減圧した還元雰囲気中で絶縁材料をプラズマ溶射して形成したことを特徴とする静電吸着装置。
IPC (3)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/302
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (22)
  • 特開昭62-286247
  • 特開平3-204924
  • 特開平4-141571
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