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J-GLOBAL ID：200903001234505833

フォトマスクブランク及びその製造方法並びにフォトマスク

Inventor： 林 健太 ,  植山 公助
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Agent (1)： 市之瀬 宮夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269732
Publication number (International publication number)：1994095363
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 KrFエキシマレーザ等の短波長光を光源とするステッパーに使用可能なフォトマスクブランク及びその製造方法並びにフォトマスクを提供する。【構成】 本発明は、透明基板1上に、シリコンに対する酸素の含有比Si/Oが1/0〜1/1.5 である組成からなる遮光性薄膜2を設け、その上にシリコンの窒化物又は炭化物からなる反射防止膜3を設けてなるフォトマスクブランク、及び透明基板1上に遮光性薄膜2と反射防止膜3をスパッタリング法により形成するフォトマスクブランクの製造方法、並びに上記フォトマスクブランクをパターン化して形成されたフォトマスクである。

Claim (excerpt)：

透明基板上に、シリコンに対する酸素の含有比(原子数比)Si/Oが1/0〜1/1.5 である組成からなる遮光性薄膜を設け、その上にシリコンの窒化物又は炭化物からなる反射防止膜を設けたことを特徴とするフォトマスクブランク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭49-053380
  
• 特開昭59-139033